真空镀膜工作原理是膜体在高温下蒸发落在工件表面结晶。由于空气对蒸发的膜体分子会产生阻力造成碰撞使结晶体变得粗糙无光,所以必须在高真空下才能使结晶体细密光亮,果如真空度不高结晶体就会失去光泽结合力也很差。早期真空镀膜是依靠蒸发体自然散射,结合差工效低光泽差。现在加上中频磁控溅射靶用磁控射靶将膜体的蒸发分子在电场的作用下加速轰击靶材,溅射出大量的靶材原子,呈中性的靶原子(或分子)沉积在基片上成膜,解决了过去自然蒸发无法加工的膜体品种,如镀钛镀锆等等。
目前真空管膜层普遍采用铝氮复合膜,整个膜层分内、中、外三层,各有其作用,内层为反射层,主要作用是阻止管中热水的热量向外辐射;中层为吸收层,主要作用是吸收光能,并转化成热能;外层为减反层,主要作用是减少阳光的反射,增加阳光的吸收率。